学術的会合 一般社団法人 日本物理学会 The Physical Society of Japan
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学術的会合
その他公募情報
主催
公益社団法人日本表面科学会
共催、協賛
日本物理学会ほか
開催期日
2013年2月19日(火)~20日(水)
開催場所
東京理科大学 森戸記念館 第2フォーラム
(162-0825東京都新宿区神楽坂4-2-2 TEL03-5225-1033)
内容
第1日目(2月19日)
1. 概論:薄膜は人類に何をもたらしたか
(東京大)深津晋
2. 薄膜の作成と加工:成長技術入門
3. 薄膜の評価:何をどう評価すべきか
(富士通研)中村友二
4. 構造評価:表面分析ツールは適材適所
5. 機能・物性向上に向けて必要なこと
6. デモ実験 & 質問・相談タイム
(東京大)深津晋・(富士通研)中村友二
第2日目(2月20日)
1. 薄膜とバルクの違い:薄膜だからできる
2. 特性改善:目的に応じて異なる膜の良否
3. 加工技術:かたちづくりが死命を制す
4. 電子デバイスの薄膜技術:最新事情
5. 環境・エネルギーは薄膜から
参加費
会員 19,500円 学生:4,500円
協賛学協会会員 29,500円 学生:6,500円
非会員 34,500円 学生:6,500円
(書籍代、別冊資料代、消費税を含む)
参加申込方法
2013年2月13日(水)(参加申込締切)http://www.sssj.org/jpn/activities/05/detail.php?eid=00003
連絡先
公益社団法人日本表面科学会事務局
TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897
E-mail:shomu@#-NO-SPAM-#sssj.org (メールアドレスは「#-NO-SPAM-#」を削除してご利用ください)
その他
詳細はHPをご覧ください。http://www.sssj.org/jpn/activities/05/detail.php?eid=00003